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美利体育登录入口官网:GB/T 6620-2009
硅片翘曲度非接触式测试方法

Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning

GBT6620-2009, GB6620-2009

正版授权中国标准出版社正式授权销售可通过授权方官方渠道验证

标准号
GB/T 6620-2009
别名
GBT6620-2009, GB6620-2009
发布
2009年
国际标准分类(ICS)
29.045 半导体材料   
总页数
10页
采用标准
SEMI MF657-0705 MOD
发布单位
国家市场监督管理总局
当前最新
GB/T 6620-2009
 
 
引用标准
GB/T 14264 GB/T 2828.1 GB/T 6618
被代替标准
GB/T 6620-1995
 
 
本体
硅片
适用范围
本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片翘曲度的非接触式测试方法。 本标准适用于测量直径大于50mm,厚度大于180μm的圆形硅片。本标准也适用于测量其他半导体圆片的翘曲度。本测试方法的目的是用于来料验收或过程控制。本测试方法也适用于监视器件加工过程中硅片翘曲度的热化学效应。
术语描述
中位面
median surface
与晶片的正表面和背表面等距离点的轨迹。
翘曲度
warp
金抽样计划 在质量合格区内]个自由的`无夹持的硅片中位面相对参照平面的最大和最小距离之差。

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基准环
由基座、3个支撑球、3个定位柱组成,如图3所示。
用于提供基准平面的专用器具,确保硅片正确定位。
测量仪
由测量探头、显示器和花岗岩平台组成。
用于非接触式测量硅片翘曲度的专业美利体育官网首页网址,具有高精度和稳定性。

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