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美利体育登录入口官网:GB/T 12964-2018
硅单晶抛光片

Monocrystalline silicon polished wafers

GBT12964-2018, GB12964-2018

正版授权中国标准出版社正式授权销售可通过授权方官方渠道验证

标准号
GB/T 12964-2018
别名
GBT12964-2018, GB12964-2018
发布
2018年
国际标准分类(ICS)
29.045 半导体材料   
总页数
10页
发布单位
国家市场监督管理总局
当前最新
GB/T 12964-2018
 
 
引用标准
GB/T 11073 GB/T 12962 GB/T 12965 GB/T 14264 GB/T 14844 GB/T 1550 GB/T 19921 GB/T 24578 GB/T 2828.1-2012 GB/T 29507 GB/T 32279 GB/T 32280 GB/T 4058 GB/T 6616 GB/T 6618 GB/T 6619 GB/T 6620 GB/T 6621 GB/T 6624 YS/T 26 YS/T 28 YS/T 679
被代替标准
GB/T 12964-2003
适用范围
本标准规定了硅单晶抛光片(简称硅抛光片)的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于直拉法、悬浮区熔法(包括中子变掺杂和气相掺杂)制备的直径不大于200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于制作集成电路、分立元件、功率器件等,或作为硅外延片的衬底。
术语描述
硅抛光片
silicon polished wafer
经过机械加工和化学抛光处理的单晶硅片。
掺杂剂浓度
dopant concentration
单位体积内掺杂杂质的数量,影响材料导电性能。
径向电阻率变化
radial resistivity variation
硅片不同区域电阻率的差异程度。

美利体育登录入口官网: GB/T 12964-2018 中提到的仪器美利体育官网首页网址

X射线荧光光谱仪
GB/T24578
用于美利体育登录入口官网硅片表面金属沾污。
自动非接触扫描仪
GB/T29507
用于测量硅片平整度、厚度变化等几何参数。
非接触涡流仪
GB/T6616
用于测试硅片电阻率及薄膜电阻。

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