发布时间:2026-09-21
溅射靶材:溅射靶材是作为阴极材料用于溅射沉积工艺,通过物理过程在基底上形成薄膜。它是在物理气相沉积过程中用作源材料的固体靶,通过离子轰击溅射沉积薄膜。在真空环境中,通过离子轰击使靶材表面原子剥离并沉积到基板上形成薄膜。它用于半导体、显示器等领域薄膜沉积,由高纯铜铸造加工而成。
溅射靶材相关标准共10份,包含现行有效、已替代、已作废等。
在国际标准分类中,溅射靶材涉及到的分类有:其他有色金属产品等。
溅射靶材涉及到的各类执行标准、规范如下(标准的数量,基本排除已被替代的标准,下同):
| 未分类 | 规范标准 |
|---|---|
| 8 | 2 |
以下国家标准机构或者组织发布了溅射靶材相关的标准规范,统计数据如下:
| 行业标准-有色金属 | 国家市场监督管理总局 |
|---|---|
| 9 | 1 |
溅射靶材都有哪些执行标准、规范?
| 标准号 | 标准名称 | 发布机构 |
|---|---|---|
| YS/T 1683-2024 | 磁记录用铬钛合金溅射靶材 | 行业标准-有色金属 |
| GB/T 26307-2025 | 银靶材 | 国家市场监督管理总局 |
以下标准未给出明确分类。共计8 个,更多>>
| 标准号 | 标准名称 | 发布机构 |
|---|---|---|
| YS/T 819-2012 | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 | 行业标准-有色金属 |
| YS/T 919-2025 | 高纯铜铸锭 | 行业标准-有色金属 |
| YS/T 1516-2022 | 高纯镍铸锭 | 行业标准-有色金属 |
| YS/T 1236-2018 | 超高纯钛锭 | 行业标准-有色金属 |
| YS/T 1358-2020 | 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 | 行业标准-有色金属 |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 行业标准-有色金属 |
| 机构代码 | 机构名称 | “溅射靶材”标准数量 | 类型 |
|---|---|---|---|
| CN-YS | 行业标准-有色金属 | 9 | 规范、其它 |
| CN-GB | 国家市场监督管理总局 | 1 | 规范 |
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