| 磁记录用铬钛合金溅射靶材 Chromium Titanium Alloy Sputtering Target for Magnetic Recording | 用于磁记录技术中的溅射靶材,适用于垂直磁记录硬盘和磁盘。 |
| 铬钛合金 Chromium Titanium Alloy | 由铬和钛组成的合金材料,用于制造溅射靶材。 |
| 溅射靶材 Sputtering Target | 在物理气相沉积过程中,用于溅射产生薄膜材料的靶材。 |
| 三坐标测量仪 | 用于精确测量外形尺寸的仪器,适用于有特殊要求的美利体育登录入口官网。 |
| 电感耦合等离子体发射光谱仪 | 用于测定钛含量的仪器,通过等离子体激发样品并测定其特征谱线。 |
| 粗糙度测量仪 | 用于测量表面粗糙度的仪器,按照GB/T1031的标准进行检验。 |
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