美利体育登录入口官网:DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015
纳米技术 词汇表 第8部分：纳米加工工艺
Nanotechnologies - Vocabulary - Part 8: Nanomanufacturing processes
- 标准号
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015
- 发布
- 2015年
- 总页数
- 37页
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 替代标准
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2021
- 当前最新
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2021-03
- 引用标准
- DIN CEN ISO/TS 80004-1 DIN CEN ISO/TS 80004-3 DIN CEN ISO/TS 80004-4 DIN CEN ISO/TS 80004-6 DIN EN ISO 2080 DIN EN ISO 3252 ISO 11074 ISO 18115-2 ISO 19353 ISO 2080 ISO 3252 ISO/TS 27687 ISO/TS 80004-1 ISO/TS 80004-3 ISO/TS 80004-4 ISO/TS 80004-6 ISO/TS 80004-8:2013
- 本体
- 纳米制造
- 适用范围
- 本技术规范包含纳米技术领域中与纳米制造工艺相关的术语和定义。它是关于纳米技术各个方面的术语和定义多部分文档的一部分。本文档中所有与工艺相关的术语均与纳米制造相关。许多列出的工艺并非仅限于纳米尺度。根据可控条件，这些工艺可以产生纳米尺度或更大尺度的材料特性。还有许多其他与纳米制造相关的术语，例如工具、部件、材料、系统控制程序或计量方法，但这些不在本文档的讨论范围之内。
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| Bottom-up-Nanoherstellung Bottom-up Nano-manufacturing | 利用纳米尺度的微小单元作为构建块，制造具有广泛功能性的更大结构或排列的过程。 |
| Ko-Abscheidung Co-deposition | 两种或多种源材料的同时沉积。 |
| gezielteAnordnung Directed assembly | 通过外部干预控制纳米尺度组件形成具有任何任意预定图案的结构的过程。 |
| Lithographie Lithography | 可重复地产生图案的过程。图案可在光敏材料中产生，或通过转印、印刷或直接写入将材料转移至衬底。 |
| Nanofertigung Nano-fabrication | 为经济目的，目标制造纳米尺度器件的整个工作流程。 |
| industrielleNanoherstellung Industrial Nano-manufacturing | 为经济目的而有意合成、制造或控制纳米材料或纳米尺度制造阶段的过程。 |
| Selbst-Anordnung Self-assembly | 组分自发地形成图案或结构的自主过程。 |
| Top-Down-Nanoherstellung Top-down Nano-manufacturing | 从宏观物体制造纳米尺度结构的过程。 |
| Kaltgasspritzen Cold gas spraying | 将纳米晶体粉末或传统粉末液化，随后在惰性气体中以高速固化成表面涂层的工艺。 |
| Flammensynthese-Prozesse Flame synthesis processes | 通过放热反应将前驱溶液与氧化剂反应，产生通常呈聚集态的纳米材料固体的过程。 |
| Sol-Gel-Prozess Sol-Gel process | 将化学溶液或胶体悬浮液（溶胶）转化为集成网络（凝胶），随后可进一步致密化的过程。 |
| Atomechicht-Abscheidung Atomic layer deposition (ALD) | 通过循环沉积基于自终止表面反应的材料来制造均匀 Conformal 薄膜的工艺，从而实现原子尺度的厚度控制。 |
| chemische Gasphasenabscheidung Chemical vapor deposition (CVD) | 通过气态前驱体或混合前驱体在衬底上发生化学反应（通常由热量引发）来沉积固体材料的过程。 |
| Nanomuster-Lithographie Nano-patterning lithography | 在三个维度上实现纳米尺度尺寸和结构化的光刻过程。 |
| Dip-Pen-Nanolithographie Dip-Pen Nanolithography | 使用探测针尖通过溶剂弯月面将特殊材料转移到衬底表面，以产生小于 100 nm 长度尺度的图案的过程。 |
| Nanopragelithographie Nano-imprint lithography | 通过将具有所需图案的纳米尺度模板（通常称为模具、冲头、掩模或压模）压入可变形光刻胶中，随后进行热或光固化的过程。 |
| Reaktives Ionen?tzen Reactive ion etching | 一种等离子体刻蚀形式，晶圆放置在高频率驱动的电极上，对电极具有更大的面积，从而产生高度各向异性的轮廓。 |
| Nass?tzen Wet etching | 使用液态蚀刻剂化学去除表面材料的过程。 |
| Drucken und Beschichten Printing and coating | 包括压印、多层膜制备、纳米纤维沉淀和纳米颗粒喷涂等多种技术，用于在衬底上形成图案或涂层。 |
美利体育登录入口官网: DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015 中提到的仪器美利体育官网首页网址
| 扫描探针显微镜 AFM-Spitze (原子力显微镜针尖) | 用于Dip-Pen Nanolithography中转移材料，或用于Rasterkraftsonden-Druck标记表面。 |
| 热喷涂美利体育官网首页网址 Plasmastrahl (等离子束) | 用于热喷涂过程，将前驱体或纳米颗粒引入等离子流中以形成涂层或纳米材料。 |
| 电子束曝光系统 Elektronenstrahl | 用于Electronenstrahllithographie，通过聚焦的束流改变光刻胶的溶解性以直接写入图案。 |
| 离子束刻蚀美利体育官网首页网址 FIB (Focused Ion Beam) | 用于Fokussierte Ionenstrahllithographie或Fokussiertes Ionenstrahl?tzen，通过聚焦离子束改变光刻胶溶解性或物理溅射去除材料。 |