美利体育登录入口官网:DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015
纳米技术 词汇表 第8部分：纳米加工工艺
Nanotechnologies - Vocabulary - Part 8: Nanomanufacturing processes
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- 标准号
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015
- 发布
- 2015年
- 总页数
- 37页
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 替代标准
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2021
- 当前最新
- DIN CEN ISO/TS 80004-8:2021-03
- 引用标准
- DIN CEN ISO/TS 80004-1 DIN CEN ISO/TS 80004-3 DIN CEN ISO/TS 80004-4 DIN CEN ISO/TS 80004-6 DIN EN ISO 2080 DIN EN ISO 3252 ISO 11074 ISO 18115-2 ISO 19353 ISO 2080 ISO 3252 ISO/TS 27687 ISO/TS 80004-1 ISO/TS 80004-3 ISO/TS 80004-4 ISO/TS 80004-6 ISO/TS 80004-8:2013
- 本体
- 纳米制造
本技术规范包含纳米技术领域中与纳米制造工艺相关的术语和定义。它是关于纳米技术各个方面的术语和定义多部分文档的一部分。本文档中所有与工艺相关的术语均与纳米制造相关。许多列出的工艺并非仅限于纳米尺度。根据可控条件，这些工艺可以产生纳米尺度或更大尺度的材料特性。还有许多其他与纳米制造相关的术语，例如工具、部件、材料、系统控制程序或计量方法，但这些不在本文档的讨论范...
| 术语 | |
|---|---|
| Bottom-up-Nanoherstellung | Bottom-up Nano-manufacturing |
| Ko-Abscheidung | Co-deposition |
| gezielteAnordnung | Directed assembly |
| Lithographie | Lithography |
| Nanofertigung | Nano-fabrication |
| industrielleNanoherstellung | Industrial Nano-manufacturing |
| Selbst-Anordnung | Self-assembly |
| Top-Down-Nanoherstellung | Top-down Nano-manufacturing |
| Kaltgasspritzen | Cold gas spraying |
| Flammensynthese-Prozesse | Flame synthesis processes |
| Sol-Gel-Prozess | Sol-Gel process |
| Atomechicht-Abscheidung | Atomic layer deposition (ALD) |
| chemische Gasphasenabscheidung | Chemical vapor deposition (CVD) |
| Nanomuster-Lithographie | Nano-patterning lithography |
| Dip-Pen-Nanolithographie | Dip-Pen Nanolithography |
| Nanopragelithographie | Nano-imprint lithography |
| Reaktives Ionen?tzen | Reactive ion etching |
| Nass?tzen | Wet etching |
| Drucken und Beschichten | Printing and coating |
美利体育登录入口官网: DIN CEN ISO/TS 80004-8:2015*DIN SPEC 52400-8:2015 中提到的仪器美利体育官网首页网址
| 扫描探针显微镜 AFM-Spitze (原子力显微镜针尖) | 用于Dip-Pen Nanolithography中转移材料，或用于Rasterkraftsonden-Druck标记表面。 |
| 热喷涂美利体育官网首页网址 Plasmastrahl (等离子束) | 用于热喷涂过程，将前驱体或纳米颗粒引入等离子流中以形成涂层或纳米材料。 |
| 电子束曝光系统 Elektronenstrahl | 用于Electronenstrahllithographie，通过聚焦的束流改变光刻胶的溶解性以直接写入图案。 |
| 离子束刻蚀美利体育官网首页网址 FIB (Focused Ion Beam) | 用于Fokussierte Ionenstrahllithographie或Fokussiertes Ionenstrahl?tzen，通过聚焦离子束改变光刻胶溶解性或物理溅射去除材料。 |