美利体育登录入口官网

美利体育登录入口官网:ASTM E1162-11(2019)
二次离子质谱法（SIMS）中溅射深度剖面数据报告的标准实施规程

Standard Practice for Reporting Sputter Depth Profile Data in Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)


标准号
ASTM E1162-11(2019)
发布
2019年
国际标准分类(ICS)
71.040.50 物理化学分析方法   
总页数
3页
当前最新
ASTM E1162-11(2019)
 
 
引用标准
ASTM E673
 
 
本体
二次离子质谱法

本文件规定了描述和报告二次离子质谱（SIMS）溅射深度剖面分析所需的信息，涵盖仪器参数、试样参数、实验条件及数据归一化程序。该实践适用于采用多种初级束激发条件、质量分析、数据采集及处理技术获得的常规溅射深度剖面，其中信息为分析平面内区域的平均值。

本文件不适用于具备面内空间分辨能力的离子微探针或显微镜技术，例如图像深度剖面分析。文件中所有数值均采用国际单位制（SI），其他计量单位未包含在内。

本文件未涵盖所有与使用相关的安全问题。使用者有责任建立适当的安全、健康及环境实践，并在使用前确定适用性法规限制。本文件的制定遵循了国际标准化原则。

二次离子质谱法
Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)		一种用于表面分析的技术，通过使用高能离子束轰击样品表面，收集和分析二次离子来获得样品的深度剖面信息。
溅射深度剖面
Sputter Depth Profile		在SIMS中，通过离子束轰击样品表面，逐层去除材料并记录每个深度处的离子信号的过程。

美利体育登录入口官网: ASTM E1162-11(2019) 中可能用到的仪器美利体育官网首页网址

二次离子质谱/离子探针 同位素质谱仪

美利体育登录入口官网: 专题

质谱的深度 二次离子质谱数据 sims 二次离子质谱 sims二次离子质谱 sims+ 二次离子质谱 sims 二次离子 质谱中报告离子 质谱数据中报告离子 质谱 溅射

美利体育登录入口官网: ASTM E1162-11(2019)相似标准

ASTM E1162-06 报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程 ASTM E1162-87(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据 ASTM E1162-87(2001) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据 ASTM E1504-11(2019) 二次离子质谱法（SIMS）中质谱数据报告的标准实施规程 GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱美利体育登录入口官网方法


Copyright ?2007-2026 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号
页面更新时间: 2026-08-10 15:00

美利体育(meili)官方网站_美利体育手机版下载