指利用电场效应控制电流的半导体器件,通过栅极电压变化调节源漏极间导电通道,是集成电路中实现信号放大与开关功能的核心元件。
| 标准号 & 类别 | 标准名称 | 发布 |
|---|---|---|
| ANSI/HI 1.4-2010 试验标准 |
Rotodynamic (Cent.) Pumps for Installation, Operation & Maintenance
|
2010 美国国家标准学会 |
| BS IEC 60747-8:2010+A1:2021 规范标准 |
Semiconductor devices. Discrete devices - Field-effect transistors
|
2021-07-31 英国标准学会 |
| GB/T 4586-1994 CP |
Semiconductor devices. Discrete devices. Part 8: Field-effect transistors
|
1994-12-31 国家市场监督管理总局 |
| GB/T 6219-1998 CP |
半导体器件 分立器件 第8部分;场效应晶体管 第一篇 1GHz、5W以下的单栅场效应晶体管空白详细规范 Semiconductor devices--Discrete devices. Part 8: Field-effect transistors. Section One--Blank detail specification for single-gate field-effect transistors up to 5W and 1GHz
|
1998-11-17 国家市场监督管理总局 |
| GOST 20398.1-1974 试验 |
Field-effect transistors. Shot-circuit forward transfer admittance measurement technique
测量装置 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.14-1988 试验 |
场效应晶体管.输出功率、功率放大系数和漏的有效系数的测量方法 Field-effect transistors. Method of measuring output power, power gain and drain efficiency
输出功率 |
1988 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.2-1974 试验 |
Field-effect transistors. Noise figure measurement technique
噪声系数 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.3-1974 |
Field-effect transistors. Forward transconductance measurement technique
测量电路 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.4-1974 |
Field-effect transistors. Active output conductance component measurement technique
测量装置 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.5-1974 试验 |
Field-effect transistors. Input transfer and output capacitance measurement technique
|
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.6-1974 试验 |
Field-effect transistors. Gate leakage current measurement technique
测量装置 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.7-1974 试验 |
Field-effect transistors. Threshold and cut-off voltage measurement technique
阈值电压 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST 20398.8-1974 试验 |
Field-effect transistors. Drain current for V(Gs)=0 measurement technique
测量装置 |
1974 俄罗斯标准局 |
| GOST R 71056-2023 参数规范 |
Field effect transistor. Parameters system
噪声系数 |
2023-11-16 俄罗斯标准局 |
| IEC 60747-4:2017 规范标准 |
半导体器件 分立器件 第4部分:微波二极管和晶体管(2.1 版;综合重。 Dispositifs à semiconducteurs – Dispositifs discrets – Partie 4: Diodes et transistors hyperfréquences (Edition 2.1; Consolidated Reprint)
|
2017-01-01 国际电工委员会 |
| IEC 60747-8-3:1995 |
半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管 第3节:外壳额定开关场效应晶体管空白详细规范 Semiconductor devices - Discrete devices - Part 8: Field-effect transistors - Section 3: Blank detail specification for case-rated field-effect transistors for switching applications
|
1995-04 国际电工委员会 |
| IEC 60747-8:2010 试验 |
Semiconductor devices - Discrete devices - Part 8: Field-effect transistors
金属氧化物半导体场效应晶体管 |
2010-12 国际电工委员会 |
| IEC 60747-8:2010+AMD1:2021 CSV 规范标准 |
Semiconductor devices - Discrete devices - Part 8: Field-effect transistors
|
2021-06-25 国际电工委员会 |
| IEC 60747-8:2021 试验标准 |
Semiconductor devices - Discrete devices - Part 8: Field-effect transistors
|
2021 国际电工委员会 |
| IEC 60835-3-6:1996 试验 |
数字微波无线电传输系统使用美利体育官网首页网址的测量方法 第3部分:卫星地面站的测量 第6节:大功率放大器 Methods of measurement for equipment used in digital microwave transmission systems - Part 3: Measurements on satellite earth stations - Section 6: High-power amplifiers
功率放大器 |
1996-03 国际电工委员会 |
| IEC TS 62607-12-3:2026 试验 |
纳米制造 - 关键控制特性 - 第12-3部分:二维材料相关产品 - 基于二维材料的场效应晶体管的肖特基势垒高度:温度相关电流-电压测量 Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 12-3: 2D material-related products - Schottky barrier heights of 2D material-based field-effect transistors: temperature-dependent current-voltage measurements
二维材料 |
2026-06-01 国际电工委员会 |
| IEC TS 62607-6-16:2022 试验标准 |
纳米制造.关键控制特性.第6-16部分:二维材料.载流子浓度:场效应晶体管法 Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-16: Two-dimensional materials - Carrier concentration: Field effect transistor method
二维材料 载流子浓度 |
2022-11-17 国际电工委员会 |
| IEC TS 62607-6-27:2025 试验标准 |
纳米制造 - 关键控制特性 - 第6-27部分:石墨烯相关产品 - 二维材料层的场效应迁移率:场效应晶体管法 Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-27: Graphene-related products - Field-effect mobility for layers of two-dimensional materials: field-effect transistor method
二维材料 |
2025-12-01 国际电工委员会 |
| IEC TS 62876-3-4:2025 试验标准 |
纳米制造 - 可靠性评估 - 第3-4部分:金属接触二维半导体器件输出特性的线性度 Nanomanufacturing - Reliability assessment - Part 3-4: Linearity of output characteristics for metal contacted 2D semiconductor devices
二维材料 |
2025-12-01 国际电工委员会 |
| JIS C 7030:1993 试验标准 |
Measuring methods for transistors
|
1993-02-01 日本工业标准调查会 |
| JIS C 7032:1993 规范标准 |
General rules for transistors
|
1993-03-01 日本工业标准调查会 |
| PD IEC TS 62607-6-16:2022 试验 |
纳米制造 关键控制特性 第6-16部分:二维材料 载流子浓度:场效应晶体管法 Nanomanufacturing — Key control characteristics — Part 6-16: Two-dimensional materials — Carrier concentration: Field effect transistor method
|
2022-11-30 英国标准学会 |
| PD IEC TS 62607-6-27:2025 试验标准 |
纳米制造 关键控制特性 第6-27部分:石墨烯相关产品 二维材料层的场效应迁移率:场效应晶体管法 Nanomanufacturing — Key control characteristics — Part 6-27: Graphene-related products — Field-effect mobility for layers of two-dimensional materials: field-effect transistor method
二维材料 |
2025-12-31 英国标准学会 |
| PD IEC/TS 62607-12-3:2026 试验 |
纳米制造 - 关键控制特性 - 第12-3部分:二维材料相关产品 - 基于二维材料的场效应晶体管的肖特基势垒高度:温度依赖性电流-电压测量 Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 12-3: 2D material-related products - Schottky barrier heights of 2D material-based field-effect transistors: temperature-dependent current-voltage measurements
二维材料 |
2026-06-01 英国标准学会 |
Copyright ?2007-2026 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号
页面更新时间: 2026-09-20 15:23