| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 相对灵敏度因子 Relative sensitivity factor (RSF) | 用于在二次离子质谱法中定量分析元素浓度的因子,通过比较参考材料和样品中的离子信号强度来确定。 |
| 二次离子质谱法 Secondary-ion mass spectrometry (SIMS) | 用于表面化学分析的技术,通过溅射样品表面并分析产生的二次离子来测定样品的成分。 |
| 离子注入参考材料 Ion-implanted reference materials | 用于校准和定量分析的参考材料,其中特定元素通过离子注入技术被引入到基质材料中。 |
| 基质 Matrix | 样品中的主要材料成分,其中包含待分析的元素。 |
| 原子浓度 Atomic concentration | 样品中某元素的原子数量与总原子数量的比率。 |
| 二次离子质谱仪 未指定 | 用于进行二次离子质谱分析的仪器,能够获取深度剖面数据。 |
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