| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 完全发育的表面缺陷 Fully developed surface imperfection | 散射所有入射辐射的表面缺陷。 |
| 部分发育的表面缺陷 Partially developed surface imperfection | 既透射又散射入射辐射的表面缺陷。 |
| 线当量宽度 (LEW) Line-equivalent width | 完全发育的划痕或吸收线的宽度,其吸收的辐射量与部分发育的划痕相同。完全发育的划痕的 LEW 等于其几何宽度。 |
| 点当量直径 (SED) Spot-equivalent diameter | 完全发育的凹坑或吸收面的直径,其吸收的辐射量与部分发育的凹坑相同。完全发育的凹坑的 SED 等于其几何直径,但级数是面积的平方根。 |
| 表面缺陷限值 Surface imperfection limit | 所有表面缺陷的总尺寸,以数字表示,超过此值该元件应被视为不适用于特定应用而被拒收。 |
| 亮场缺陷对比度 Bright-field defect contrast | 跨越表面缺陷图像的背景的亮度和最小亮度之差与这些值之和的比率。 |
| 阴影比较 Shadow comparison | 一种测量表面缺陷损坏程度的方法,将其在亮场条件下的峰值对比度与已知尺寸的阴影进行比较。 |
| 视觉对比度阈值 Visual contrast threshold | 特定观察者能够看到的物体亮度与背景亮度的最小比率。 |
| 微镜 低放大倍数 | 用于测量尺寸大于 10 微米的划痕长度和宽度以及缺陷尺寸的辅助工具。 |
| 显微镜图像比较器 用于测量尺寸小于 0.01 毫米的表面缺陷 | 一种用于比较表面缺陷与已知尺寸的参考缺陷(如不透明线条或斑点)以测量其阴影(LEW 和 SED)的仪器。 |
| 比较板 具有不同宽度的线条和不同直径的斑点 | 用于视觉比较表面缺陷尺寸的参考工具,通常通过蒸镀铬在玻璃上制成。 |
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