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光学和光子学 - 光学元件表面缺陷的试验方法。本国际标准规定了表面缺陷测量的物理基础和方法。该方法用于评估光学表面上被遮挡或受损的区域。这些方法适用于原型、小批量或大批量生产的各种光学元件。表面缺陷的外观或功能公差可以根据制造商和客户的协议确定。
| 术语 | |
|---|---|
| 完全发育的表面缺陷 | Fully developed surface imperfection |
| 部分发育的表面缺陷 | Partially developed surface imperfection |
| 线当量宽度 (LEW) | Line-equivalent width |
| 点当量直径 (SED) | Spot-equivalent diameter |
| 表面缺陷限值 | Surface imperfection limit |
| 亮场缺陷对比度 | Bright-field defect contrast |
| 阴影比较 | Shadow comparison |
| 视觉对比度阈值 | Visual contrast threshold |
| 微镜 低放大倍数 | 用于测量尺寸大于 10 微米的划痕长度和宽度以及缺陷尺寸的辅助工具。 |
| 显微镜图像比较器 用于测量尺寸小于 0.01 毫米的表面缺陷 | 一种用于比较表面缺陷与已知尺寸的参考缺陷(如不透明线条或斑点)以测量其阴影(LEW 和 SED)的仪器。 |
| 比较板 具有不同宽度的线条和不同直径的斑点 | 用于视觉比较表面缺陷尺寸的参考工具,通常通过蒸镀铬在玻璃上制成。 |
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