| 千分尺 测量精度达5微米,配备棘轮机构 | 用于通过差值法测量涂层厚度,测量范围需能覆盖被测涂层厚度。 |
| 圆形刻度盘指示器 机械式精度达5微米,电子式精度达1微米或更高,配备测头提升装置 | 用于通过差值法测量涂层厚度,测头形状根据涂层硬度选择(球头用于硬涂层,平头用于软涂层)。 |
| 永磁体测厚仪 用于7A方法(永磁体分离法) | 测量永磁体与被涂覆表面之间的磁力,根据分离力计算涂层厚度。 |
| 涡流测厚仪 用于7D方法(涡流法),工作频率0.1-30MHz(注:原文可能有误,通常涡流频率较高),基于电磁感应原理 | 通过测量电磁体产生的高频电磁场在导电基材中产生的涡流变化来确定非导电涂层的厚度。 |
| 磁感应测厚仪 用于7C方法(磁感应法),工作频率60-400Hz | 测量穿过涂层和被涂覆表面的磁通量变化,从而确定涂层厚度。 |
在芯片制造的数百道工序中,薄膜沉积非常重要。从晶体管栅极氧化层到金属互连的阻挡层,每一层薄膜的厚度误差都必须控制在原子尺度(埃米级,1?=0.1nm)。薄膜厚度量测,正是确保芯片制造中的有效保证。一、背景在半导体制造领域,芯片需历经超 1000 道复杂工艺步骤,涵盖光刻图案化、薄膜沉积、蚀刻...
本文提出一个直接利用薄膜和衬底的X射线能谱来同时测定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜发出的各元素的标识X射线强度比确定其成分,利用NaCl衬底的Nak_α和Clk_α标识X射线的强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚,本方法不需要纯元素的块状标样,对在NaCl衬底上沉积的Cu-Si合金薄膜的成分和...
本文利用薄膜对入射电子束流的衰减作用和薄膜对衬底的x射线的吸收,提出了一种直接利用衬底的x射线的强度比来测量薄膜厚度的方法。并在各种实验条件下,对Cu薄膜的厚度进行了测量,得到了较为满意的结果...
??塑料薄膜厚度均匀与否会给薄膜印刷工序造成重要影响。以凹版印刷塑料膜材料为例,张力的控制与薄膜的材质、厚度、以及厚度的均匀性都有关系,控制不好能直接引起材料的套印不准。此外,薄膜厚度均匀性差还可能导致薄膜印刷后出现收卷错位的现象。? ??同时,使用这种厚度不均匀的薄膜作外包装,在使用时包装物易出现...
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