
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| X射线荧光 X-ray fluorescence | 当高强度入射X射线束照射到置于入射束路径中的材料时产生的二次辐射。注:二次发射具有该材料特有的波长和能量。 |
| 荧光辐射强度 intensity of fluorescent radiation | 由仪器测量的辐射强度x,以每秒计数(辐射脉冲)表示。 |
| 饱和厚度 saturation thickness | 超过该厚度后,荧光强度不再产生任何可美利体育登录入口官网变化的厚度。注:饱和厚度取决于荧光辐射的能量或波长、材料的密度和原子序数,以及入射和荧光辐射相对于材料表面的角度。 |
| 归一化强度 normalized intensity | coated specimen(镀层试样)获得的强度x与未镀层基材获得的强度x0之差,与厚度等于或大于饱和厚度xs的材料获得的强度xs与未镀层基材获得的强度x0之差(所有测量条件相同)的比值。注:归一化强度与测量和积分时间以及激发(入射辐射)强度无关。几何构型和激发辐射的能量会影响归一化计数率。xn的值在0到1之间。 |
| 中间镀层 intermediate coatings | 位于顶层镀层和基材之间且厚度小于各镀层饱和厚度的镀层。注:任何位于顶层镀层和基材(基底)之间且厚度超过饱和厚度的镀层,应被视为真正的基材,因为该镀层下的材料不会影响测量,在测量目的中可以忽略。 |
| 计数率 count rate | 仪器每单位时间记录的辐射脉冲数(见2.2)。 |
| 基材 basis material | 镀层沉积或形成的材料。 |
| 基底 substrate | 直接在其上沉积镀层的材料。注:对于单层或第一层镀层,基底与基材相同;对于后续镀层,中间镀层即为基底。 |
| X射线光谱仪 未提及 | 用于测量镀层厚度的仪器,包含X射线管或放射性同位素激发源、色散系统(波长或能量色散)、探测器及多道分析器。 |
| 多道分析器 未提及 | 用于能量色散系统,调整以选择正确的能量波段,接收荧光辐射。 |
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