GB/T 47187-2026由国家市场监督管理总局 国家标准化管理员会 CN-GB 发布于 2026-02-27,并于 2026-09-01 实施。
GB/T 47187-2026在国际标准分类中归属于: 71.040.99 有关分析化学的其他标准。
GB/T 47187-2026 微束分析 体电子显微术 生物样品的聚焦离子束-扫描电镜三维成像方法的最新版本是哪一版?
最新版本是 GB/T 47187-2026 。
本文件描述了基于常温聚焦离子束 - 扫描电镜对生物样品进行三维成像的方法。本文件适用于各种类型的常温聚焦离子束 - 扫描电镜对细胞、动植物组织、微生物等生物样品进行三维成像。
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 体电子显微术 Volume electron microscopy | 通过对毫米尺度的样品进行连续超薄切削,再对获取的连续超薄切片或连续暴露表面采集序列电镜图像进行高分辨率大尺度三维重构,从而获得样品一定体积内的三维结构信息的技术。 |
| 聚焦离子束 Focused ion beam | 采用聚焦的离子束对试样表面进行轰击,并由计算机控制离子束的扫描或加工轨迹、步距、驻留时间和循环次数,以实现对材料的成像、刻蚀、诱导沉积和注入的分析加工系统。 |
| 聚焦离子束 - 扫描电镜 Focused ion beam-scanning electron microscope | 具有 FIB 及扫描电子显微成像系统的微纳加工与成像仪器。该仪器由离子光学系统、图形发生器、电子光学系统、样品室、信号采集处理系统、真空系统等组成。 |
| 重金属染色 Heavy metal staining | 采用重金属化合物染色剂对生物样品进行染色,使样品中的细胞结构或大分子吸附不同数量的重金属,以增强样品中超微结构的图像衬度。 |
| 背散射电子 Backscattered electron | 入射电子在样品中受到原子核的卢瑟福散射而形成大角度散射,而重新逸出样品表面的高能电子。背散射电子产额由样品内部元素的原子核大小决定,组成样品元素的原子核越大,背散射电子信号越强。 |
| 离子束切削/刻蚀 Ion beam milling/etching | 采用高能离子束轰击试样表面,将试样的原子溅射出表面的过程。 |
| 气体注入系统 Gas injection system | 用于向试样表面注入某种气体来辅助完成物质沉积与增强刻蚀功能的系统。 |
| 前驱气体 Precursor gas | 含有目标元素,呈气态、易挥发液态或固态,具备化学热稳定性和相应的反应活性或物理性能的有机化合物。 |
| 离子束诱导沉积 Ion beam induced deposition | 采用聚焦离子束诱导前驱气体在试样表面分解形成固态物质的过程。 |
| 帘幕效应 Curtain effect | 由于试样表面存在成分差异或形貌起伏,离子束刻蚀面存在的条纹状缺陷现象。 |

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| 移液器 无特定型号 | 用于精确移取液体试剂。 |
| 离子溅射仪 无特定型号,用于喷镀导电膜 | 用于对包埋块喷镀导电膜,膜厚不低于 50nm。 |
| 体视显微镜 无特定型号 | 用于修块时观察样品四周的空白环氧树脂。 |
| 切片修块机 无特定型号 | 用于对聚合好的包埋块进行精细修整。 |
| 涡旋振荡仪 无特定型号 | 用于试剂混合或样品处理。 |
| 玻璃制刀机 无特定型号 | 用于制备玻璃刀进行修块。 |
| 聚焦离子束 - 扫描电镜 具有低加速电压下自动序列切削成像的功能,切削步距小于 10nm。加速电压小于或等于 5kV 时,背散射电子像分辨率高于 5nm,二次电子像分辨率高于 3nm。离子束成像分辨率高于 5nm。 | 用于生物样品的三维成像,具备离子束切削和电子束成像功能。 |
| 高速离心机 无特定型号 | 用于培养细胞和微生物样品的离心富集。 |
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