干涉测量是一种利用光波干涉原理进行高精度测量的技术，通过比较两束或多束光波的相位差来获取光学元件表面形状、波前误差等信息。能以纳米级分辨率测量表面形貌，用于量化腐蚀特征的尺寸和深度。
| 标准号 & 类别 | 标准名称 | 发布 |
|---|---|---|
| AMPP Paper 17747-2022 试验 |
喷砂处理 局部腐蚀 |
2022 材料保护与性能协会 |
| BS ISO 14999-4:2015 试验标准 |
光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 ISO 10110 中规定的公差的解释和评估 Optics and photonics. Interferometric measurement of optical elements and optical systems. Interpretation and evaluation of tolerances specified in ISO 10110
光学元件 波前变形 |
2015-07-31 英国标准学会 |
| DIN ISO 14999-4 E:2015-06 试验 |
光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉仪测量 第4部分：ISO 10110规定的公差说明和评估 Optics and photonics - Interferometric measurement of optical elements and optical systems - Part 4: Interpretation and evaluation of tolerances specified in ISO 10110
|
2015-06 德国标准化学会 |
| DIN ISO 14999-4:2008 规范 |
光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第4部分:ISO 10110规定的公差说明和评估(ISO 14999-4-2007).英文版本DIN ISO 14999-4-2008 Optics and photonics - Interferometric measurement of optical elements and optical systems - Part 4: Interpretation and evaluation of tolerances specified in ISO 10110 (ISO 14999-4:2007); English version of DIN ISO 14999-4:2008-12
光学元件 波前变形 |
2008-12 德国标准化学会 |
| GOST R 8.743-2011 术语 |
国家测量一致性保证体系.光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第1部分:术语、定义和基本关系 State system for ensuring the uniformity of measurements. Optics and photonics. Interferometric measurement of optical elements and systems. Part 1. Terms, definitions and fundamental relationships
波前 |
2011 俄罗斯标准局 |
| GOST R 8.744-2011 试验 |
国家测量一致性保证体系.光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第3部分:干涉仪试验美利体育官网首页网址和测量的校准和检定 State system for ensuring the uniformity of measurements. Optics and photonics. Interferometric measurement of optical elements and optical systems. Part 3. Calibration and validation of interferometric test equipment and measurements
|
2011 俄罗斯标准局 |
| GOST R 8.745-2011 试验 |
国家测量一致性保证体系.光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第2部分:测量和评价技术 State system for ensuring the uniformity of measurements. Optics and photonics. Interferometric measurement of optical elements and optical systems. Part 2. Measurement and evaluation techniques
波前 |
2011 俄罗斯标准局 |
| ISO 10110-14:2018 规范 |
光学和光子学. 光学元件和系统的制图准备. 第14部分: 波阵面变形公差 Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 14: Wavefront deformation tolerance
光学元件 |
2018-11-01 国际标准化组织 |
| ISO/TR 14999-1:2005 术语 |
光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第1部分:术语、定义和基本关系 Optics and photonics - Interferometric measurement of optical elements and optical systems - Part 1: Terms, definitions and fundamental relationships
波前 |
2005-03 国际标准化组织 |
| ISO/TR 14999-2:2005 指南标准 |
光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第2部分:测量和评价技术 Optics and photonics - Interferometric measurement of optical elements and optical systems - Part 2: Measurement and evaluation techniques
波前 |
2005-03 国际标准化组织 |
| ISO/TR 14999-2:2019 试验/规范 |
光学和光子学 - 光学元件和光学系统的干涉测量 - 第2部分:测量和评估技术 Optics and photonics — Interferometric measurement of optical elements and optical systems — Part 2: Measurement and evaluation techniques
光学元件 |
2019-07-22 国际标准化组织 |
| JIS B 0091:2010 术语 |
光学元件和光学系统的干涉测量.表面形式和波阵面变形公差的术语和定义 Interferometric measurement of optical elements and systems -- Terms and definitions of surface form and wavefront deformation tolerances
|
2010-05-20 日本工业标准调查会 |
| PD ISO/TR 14999-1:2005 术语 |
光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 术语、定义和基本关系 Optics and photonics. Interferometric measurement of optical elements and optical systems. Terms, definitions and fundamental relationships
波前 |
2005-04-07 英国标准学会 |
Copyright ?2007-2026 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号
页面更新时间: 2026-09-06 01:42