本文件规定了采用磁扇区辉光放电质谱法(GDMS)测定高纯铝铜、铝硅及铝铜硅合金中痕量金属杂质浓度的测试方法。该合金体系以铝为主要成分(质量分数大于95.0%),铜和硅含量均不大于5.0%。
本测试方法适用于半导体行业,用于评估溅射靶材、蒸发源等薄膜金属化工艺用材料的纯度。同时,该方法旨在统一各实验室在痕量杂质分析中的协议与参数,提升实验室间数据的一致性,并作为生产方与使用方之间的仲裁方法。
常规分析中,大多数金属元素的美利体育登录入口官网限约为0.01质量分数ppm;采取特殊预防措施时,美利体育登录入口官网限可达亚ppb水平。该方法需由经验丰富的操作人员使用精密的计算机控制实验室美利体育官网首页网址执行,涵盖样品制备、相对灵敏度因子设定及美利体育登录入口官网限确定等关键因素。
| 机械加工装置 能够制备所需几何形状和光滑表面的试样和参考样品 | 用于制备符合 GDMS 分析要求的试样几何形状的美利体育官网首页网址。 |
| 电解抛光装置 能够去除试样表面污染物的装置 | 用于在分析前清洁试样表面,去除污染物。 |
| 辉光放电质谱仪 质量分辨率大于 3500,配备液氮冷却、帕尔贴冷却或等效冷却方法的离子源试样池 | 用于对铝合金中的痕量金属杂质进行高灵敏度分析的核心美利体育官网首页网址。 |
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