本文件规定了表面分析前试样的处理与制备要求，适用于俄歇电子能谱（AES）、X射线光电子能谱（XPS）及二次离子质谱（SIMS）等表面分析技术。鉴于表面层厚度通常为纳米级，不当操作极易导致表面成分改变，进而影响分析数据的可靠性。
本文件旨在为试样所有者、服务采购方及表面分析人员提供通用指导原则。由于试样类型及信息需求的多样性，具体操作需结合实际情况确定。建议试样提供方尽早与分析师沟通，明确试样历史、分析目标及所需制备程序。此外，本文件所述方法亦适用于离子散射谱、低能电子衍射等其他受试样处理影响的表面敏感分析技术。
本文件未涵盖所有潜在的安全问题，使用者应自行建立适当的安全与健康实践，并确定相关法规的适用性。
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 俄歇电子能谱 Auger Electron Spectroscopy (AES) | 一种表面分析技术，用于测量材料表面的元素组成。 |
| X射线光电子能谱 X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS or ESCA) | 一种表面分析技术，用于测量材料表面的元素组成和化学状态。 |
| 二次离子质谱 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) | 一种表面分析技术，用于测量材料表面的元素和分子组成。 |
| 表面污染 Surface Contamination | 样品表面因不当处理而引入的外来物质。 |
| 样品存储 Specimen Storage | 在分析前对样品进行适当的保存以防止污染。 |
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