美利体育登录入口官网:GOST 27716-1988
印刷电路板的光掩膜.一般技术条件
Masks for printed boards. General specifications
- 标准号
- GOST 27716-1988
- 发布
- 1988年
- 国际标准分类(ICS)
- 31.180 印制电路和印制电路板
- 总页数
- 14页
- 发布单位
- 俄罗斯标准局
- 当前最新
- GOST 27716-1988
- 引用标准
- GOST 14192-1977 GOST 16272-1979 GOST 18300-1987 GOST 2.201-1980 GOST 2.601-1968 GOST 23216-1978 GOST 23751-1986 GOST 427-1975 GOST 5007-1987 GOST 5959-1980
- 本体
- 拓扑结构
- 适用范围
- 本标准适用于生产单面、双面、多层的工作光掩模
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 基准光刻掩模 reference photo-mask | 用于后续制造工作光刻掩模的光刻掩模。 |
| 工作光刻掩模 working photo-mask | 利用光线将掩模上的拓扑结构复制到印刷电路板毛坯上的光刻掩模。 |
| 光刻掩模拓扑 photo-mask topology | 定义光刻掩模元件形状、相互位置、几何尺寸及尺寸偏差的图形（图纸）。 |
| 光刻掩模拓扑元件 photo-mask topology element | 光刻掩模拓扑中的导体、焊盘、端接端子、屏蔽层等。 |
| 光刻掩模组件 set of photo-masks | 相互套合在一起，用于制造特定类型和名称印刷电路板所需的光刻掩模数量。 |
| 乳剂光刻掩模 emulsion photo-mask | 在光敏胶片或照相底片上制造的光刻掩模。 |
| 重氮光刻掩模 diazotype photo-mask | 在重氮胶片或重氮塑料片上制造的光刻掩模。 |
| 光刻掩模工作区 working zone of photo-mask | 光刻掩模上布置有拓扑元件的部分。 |
| 光刻掩模工艺区 technological field of photo-mask | 位于光刻掩模工作区轮廓周围的部分，包含制造光刻掩：陀∷⒌缏钒逅璧目刂票昙呛凸ひ毡昙。 |
美利体育登录入口官网: GOST 27716-1988 中提到的仪器美利体育官网首页网址
| 密度计 测量范围 0-4 | 用于测量乳剂光刻掩模的光密度和重氮光刻掩模的拷贝密度的仪器。 |
| 显微镜 放大倍数不小于10倍 | 用于检查光刻掩模工作区外观缺陷（如针孔、点、划痕）的测量工具。 |
| 测微计/测量仪器 精度±0.01 mm 或 ±0.002 mm | 用于测量光刻掩模拓扑元件尺寸、位置公差及外观缺陷尺寸的测量工具。 |
| 金属直尺 符合 GOST 427-75 | 用于测量光刻掩模工艺区宽度的工具。 |
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