美利体育登录入口官网:ISO 9802:1996
光学玻璃毛坯 词汇 三种语言版
Raw optical glass - Vocabulary
- 标准号
- ISO 9802:1996
- 发布
- 1996年
- 国际标准分类(ICS)
- 01.040.81 玻璃和陶瓷工业 (词汇) 81.040.10 原材料和未加工的玻璃
- 总页数
- 60页
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 替代标准
- ISO 9802:1996/cor 1:2005
- 当前最新
- ISO 9802:2022
- 引用标准
- ISO 7944
- 本体
- 光学玻璃 退火
- 适用范围
- 定义与原始光学玻璃和相关制造工艺相关的术语。 包含光学玻璃的类型、工艺和材料、光学特性、非光学特性和玻璃缺陷。
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 光束 light beam | 光线束或柱，一束光线。注：它可由平行、会聚或发散的光线组成。 |
| 光线 light rays | 垂直于光波波前的线，指示其传播方向。 |
| 电磁辐射 electromagnetic radiation | (1) 以电磁波或光子形式发射或传输能量；(2) 这些电磁波或这些光子。 |
| 光辐射 optical radiation | 波长在过渡到X射线区域（λ≈1 nm）和过渡到无线电波区域（λ≈1 mm）之间的电磁辐射。 |
| 可见辐射 visible radiation | 能够直接引起视觉感觉的任何光辐射。注：对于本国际标准，界限为380 nm和780 nm。 |
| 红外辐射 infrared radiation | 波长比可见辐射波长长的光辐射。注：780 nm至1 mm的范围通常分为IR-A、IR-B和IR-C。 |
| 紫外辐射 ultraviolet radiation | 波长比可见辐射波长短的光辐射。注：100 nm至400 nm的范围通常分为UV-A、UV-B和UV-C。 |
| 光谱 spectrum | （针对辐射）所考虑辐射的单色成分的显示或规范。注：包括线光谱、连续光谱以及兼具这两种特征的光谱。 |
| 原始玻璃 raw glass | (1) 通常通过熔化、无结晶冷却和退火获得的无机产品，通常对光谱的一部分透明；(2) 在制造成元件之前的任何固态玻璃。 |
| 光学玻璃 optical glass | 在很大程度上没有气泡、节瘤、结石等缺陷以及条纹和应力等不均匀性的玻璃，其特征在于规定的折射率和色散等光学性能。 |
| 冕牌玻璃 crown glass | 一种光学玻璃类型，对于折射率小于1.60的玻璃，阿贝数大于55；对于折射率大于1.60的玻璃，阿贝数大于50。 |
| 火石玻璃 flint glass | 一种光学玻璃类型，对于折射率大于1.60的玻璃，阿贝数小于50；对于折射率小于1.60的玻璃，阿贝数小于55。 |
| 塌模 slumping | 玻璃部件在高温下因自重而发生的变形。 |
| 模压 moulding | 在高温下使用工具在压力下对玻璃部件进行成型。 |
| 退火 annealing | （针对光学玻璃）一种热处理工艺，使玻璃的折射率稳定在与所需值接近的值，并通过在接近退火温度的特定时间内保持玻璃，随后以特定速率冷却，使双折射最小化并获得无应力玻璃。 |
| 粗磨 generating | 一种快速去除玻璃以产生接近最终形状表面形式的粗加工过程。 |
| 表面处理 surfacing | 对光学元件表面进行研磨、抛光和抛光的工艺。 |
| 研磨 grinding | 在光学元件制造过程中，使用结合磨料机械去除材料以减少表面粗糙度的工艺。 |
| 抛光 lapping | 在光学元件制造过程中，使用松散磨料机械去除材料以减少表面粗糙度的工艺。 |
| 倒角 chamfering | 通过研磨或抛光去除锐边的工艺。 |
| 修边 edging | 使用砂轮对光学元件边缘进行精加工的工艺。 |
| 蚀刻 etching | 通过溶解在化学试剂（通常是酸）中，或通过高能离子或中性粒子轰击，去除玻璃表面顶层的工艺。 |
| 浸出 leaching | 通过化学反应（ preferably 通过水溶液）从玻璃体中提取可移动（可溶性）成分。 |
| 超声波清洗 ultrasonic cleaning | 利用超声波力在液体中清洗光学表面的工艺。 |
| 磨料 abrasive | 如金刚石、二氧化硅、碳化硅、刚玉、氧化铈、氧化锆或红粉等材料，用于光学工业中研磨或抛光光学元件。注：材料可分为松散磨料和结合磨料两类。 |
| 磨料颗粒 pellet | 结合磨料，例如金刚石或碳化硼。 |
| 洗涤剂 detergent | 合成液体或固体物质，含有少量有机表面活性剂和大量无机助洗剂（通常是聚磷酸盐）。注：也可含有单磷酸盐、碳酸钠、碳酸氢钠等。溶于水后用于清洗表面，特别是玻璃表面。 |
| 折射 refraction | 辐射在穿过光学非均匀介质或穿过分隔不同介质的表面时，由于其传播速度的变化而改变方向的工艺。 |
| 折射率 refractive index | （针对介质，对于真空中波长为λ的单色辐射）真空中电磁波速度与介质中该单色辐射波的相速度之比。注：对于技术应用，通常给出相对于空气的折射率而非真空中的折射率。 |
| 主折射率 principal refractive index | 参考波长546.07 nm（绿色汞e线）和587.56 nm（黄色氦d线）处的折射率。注：这些主折射率分别表示为ne和nd。 |
| 色散 dispersion | 介质中单色辐射的传播速度随这些辐射频率变化的现象。 |
| 主色散 principal dispersion | 由(nF' - nC')和(nF - nC)表示的折射率之差，其中nF'是蓝色镉F'线（479.99 nm）的折射率，nC'是红色镉C'线（643.85 nm）的折射率，nF是蓝色氢F线（486.13 nm）的折射率，nC是红色氢C线（656.27 nm）的折射率。 |
| 部分色散 partial dispersion | 除主色散波长组合外的其他波长组合的折射率之差。 |
| 相对部分色散 relative partial dispersion | 部分色散与主色散的比值。 |
| 阿贝数 Abbe number | 用于确定光学材料或元件色差校正的数学表达式，表示为νd = (nd - 1) / (nF - nC) 或 νe = (ne - 1) / (nF' - nC')。 |
| 均匀性 homogeneity | 玻璃毛坯或熔体中折射率的恒定性。注：折射率变化越。刃栽胶。 |
| 吸收 absorption | 辐射能与物质相互作用转化为另一种形式能量的工艺。 |
| 选择性吸收 selective absorption | 光通过样品时，某些波长（频率、颜色）被衰减，而其他波长无衰减通过的工艺。 |
| 着色 coloration | 通过产生色心（例如引入或吸收离子或胶体）在可见光谱中产生的部分吸收。 |
| 线性吸收系数 linear absorption coefficient | 吸光度A与辐射穿过的路径长度d的比值，表示为 a = A/d = (1/d)lg(1/τi)。 |
| 光学密度 optical density | 透射率倒数的以10为底的对数，表示为 Dτ = log10(1/τ) = lg(1/τ)。注：不要与吸光度、内部透射率密度混淆。 |
| 透射 transmission | 辐射穿过介质而不改变其单色成分频率的过程。 |
| 透射率 transmittance | （针对给定光谱成分、偏振和几何分布的入射辐射）在给定条件下，透射的辐射通量或光通量与入射通量的比值。 |
| 内部透射率 internal transmittance | （针对均匀非扩散层）到达层内部出射面的辐射通量与穿过入射面进入层的通量之比。 |
| 反射 reflection | 辐射被表面或介质返回而不改变其单色成分频率的过程。注：部分辐射在介质表面反射（表面反射）；另一部分可能从介质内部散射回来（体积反射）。 |
| 反射率 reflectance | （针对给定光谱成分、偏振和几何分布的入射辐射）在给定条件下，反射的辐射通量或光通量与入射通量的比值。 |
| 发光 luminescence | 材料中的原子、分子或离子发射特定波长或区域的光辐射。 |
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| 光谱仪 未提及 | 用于测量光谱成分的仪器，用于表征光学玻璃的光学特性。 |