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多晶硅生产固定污染源含氢排气中气态污染物采样方法

Sampling method for gaseous pollutants in hydrogen-containing exhaust gas from stationary pollution sources in polycrystalline silicon production


美利体育登录入口官网: T/CNIA 0175-2022 中,可能用到以下仪器

 

固定污染源VOCs大气采样器

固定污染源VOCs大气采样器

申贝科学仪器(苏州)有限公司

 

标准号
T/CNIA 0175-2022
发布
2022年
ICS
77.040.01
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CNIA 0175-2022
 
 

本文件规定了多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样方法。 本文件适用于多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样。


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