美利体育登录入口官网:T/CSEA 15-2021
真空磁控溅射镀银工艺及质量检验
Vacuum Magnetron Sputtering Silver Plating Technology and Quality Inspection
- 标准号
- T/CSEA 15-2021
- 发布
- 2021年
- 总页数
- 15页
- 发布单位
- 中国团体标准
- 当前最新
- T/CSEA 15-2021
- 引用标准
- GB/T 10125 GB/T 11164 GB/T 12609 GB/T 12611 GB/T 16921 GB/T 3621 GB/T 4135 GB/T 4842 GB/T 4955 GB/T 4956 GB/T 5270 GB/T 6462 GB/T 6463 GB/T 8923 GJB/Z 594A HB 5034 HB 5335 HB 5472 HB/Z 26 JB/T 8946
- 本体
- 喷丸 喷砂
- 适用范围
- 本标准规定了真空磁控溅射镀银有关的术语和定义、工艺方法、材料与美利体育官网首页网址要求、质量检验以及包装储存等。 本标准适用于航空航天、船舶、电子等领域的金属以及非金属零件的真空磁控溅射镀银工艺、质量控制与验收。
| 术语 | 描述 |
|---|---|
| 真空磁控溅射镀银 silver coating of vacuum magnetron sputtering | 在真空条件下，利用辉光放电产生氩离子并撞击银靶材表面，银靶材的原子被溅射出而沉积在基片表面形成薄膜的过程。 |
| 喷砂 sand blasting | 利用压缩空气带动砂子（或弹丸）形成高速砂流，对工件表面进行微观切削或冲击，除去锈蚀、氧化皮及其它污物。 |
| 喷丸 shot blasting | 喷丸是一种表面强化工艺，即使用丸：浠鞴ぜ表面并植入残余压应力，提升工件疲劳强度的冷加工工艺。 |
| 真空镀膜美利体育官网首页网址 vacuum coating equipment | 在真空状态下制取膜层的美利体育官网首页网址。 |
| 物理气相沉积（PVD) physical vapor deposition | 物理气相沉积表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 |
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| 真空磁控溅射镀银美利体育官网首页网址 | 真空磁控溅射镀银美利体育官网首页网址应符合GB/T 11164、JB/T 8946标准要求。真空磁控溅射镀银美利体育官网首页网址应满足以下技术要求：极限压力：≤7×10-4Pa；压升率：≤0.5 Pa/h；镀膜模式：真空磁控溅射。 |