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钨钛合金靶材

Tungsten titanium alloy target

YST1129-2016, YS1129-2016

正版授权中国标准出版社正式授权销售可通过授权方官方渠道验证

标准号
YS/T 1129-2016
别名
YST1129-2016, YS1129-2016
发布
2016年
国际标准分类(ICS)
77.160 粉末冶金   
总页数
8页
发布单位
行业标准-有色金属
当前最新
YS/T 1129-2016
 
 
引用标准
GB/T 14265 GB/T 3850 GB/T 6394 GB/T 8651 YS/T 901
 
 
本体
靶坯
适用范围
本标准规定了溅射用钨钛合金靶坯的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)等内容。本标准适用于钨钛合金溅射靶材加工用靶坯。
钨钛合金靶材
tungsten titanium alloy sputtering target
由钨和钛组成的合金材料,用于溅射镀膜工艺,作为靶材使用。
溅射
sputtering
一种物理气相沉积技术,通过高能粒子轰击靶材表面,使靶材原子或分子溅射出来并沉积在基片上形成薄膜。
靶坯
target blank
经过加工但尚未完成最终成型的靶材坯料,用于进一步加工成溅射靶材。

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